Produktai

View as

CVD TaC dangos nešiklis

VeTek Semiconductor CVD TaC dangos laikiklis daugiausia skirtas puslaidininkių gamybos epitaksiniam procesui. CVD TaC dangos laikiklio itin aukšta lydymosi temperatūra, puikus atsparumas korozijai ir išskirtinis terminis stabilumas lemia šio gaminio būtinumą puslaidininkių epitaksiniame procese. Mes nuoširdžiai tikimės užmegzti su jumis ilgalaikius verslo santykius.

Skaityti daugiau Siųsti užklausą

CVD SiC dangos pertvara

„Vetek Semiconductor“ CVD SiC dangos pertvara daugiausia naudojama Si epitaksijoje. Paprastai jis naudojamas su silicio prailginimo statinėmis. Jis sujungia unikalią aukštą temperatūrą ir CVD SiC dangos pertvaros stabilumą, o tai labai pagerina tolygų oro srauto paskirstymą puslaidininkių gamyboje. Tikime, kad mūsų produktai gali suteikti jums pažangių technologijų ir aukštos kokybės produktų sprendimų.

Skaityti daugiau Siųsti užklausą

CVD SiC grafito cilindras

„Vetek Semiconductor“ CVD SiC grafito cilindras yra pagrindinis puslaidininkinėje įrangoje, tarnaujantis kaip apsauginis skydas reaktoriuose, siekiant apsaugoti vidinius komponentus esant aukštai temperatūrai ir slėgiui. Jis veiksmingai apsaugo nuo chemikalų ir didelio karščio, išsaugodamas įrangos vientisumą. Išskirtinis atsparumas dilimui ir korozijai užtikrina ilgaamžiškumą ir stabilumą sudėtingoje aplinkoje. Naudojant šiuos dangčius pagerėja puslaidininkinių įrenginių veikimas, pailgėja eksploatavimo laikas ir sumažėja priežiūros reikalavimai bei sugadinimo rizika. Kviečiame pasiteirauti.

Skaityti daugiau Siųsti užklausą

CVD SiC dangos antgalis

„Vetek Semiconductor“ CVD SiC dangos purkštukai yra pagrindiniai komponentai, naudojami LPE SiC epitaksijos procese, norint nusodinti silicio karbido medžiagas puslaidininkių gamybos metu. Šie purkštukai paprastai yra pagaminti iš aukštos temperatūros ir chemiškai stabilios silicio karbido medžiagos, kad būtų užtikrintas stabilumas atšiaurioje apdorojimo aplinkoje. Sukurtos vienodam nusodinimui, jie atlieka pagrindinį vaidmenį kontroliuojant puslaidininkiuose auginamų epitaksinių sluoksnių kokybę ir vienodumą. Tikimės užmegzti ilgalaikį bendradarbiavimą su jumis.

Skaityti daugiau Siųsti užklausą

CVD SiC dangos apsauga

„Vetek Semiconductor“ teikia CVD SiC dangos apsaugą. Naudojama LPE SiC epitaksija. Terminas „LPE“ paprastai reiškia žemo slėgio epitaksiją (LPE), naudojant žemo slėgio cheminį nusodinimą iš garų (LPCVD). Puslaidininkių gamyboje LPE yra svarbi vieno kristalo plonų plėvelių auginimo proceso technologija, dažnai naudojama silicio epitaksiniams sluoksniams arba kitiems puslaidininkių epitaksiniams sluoksniams auginti. Jei turite daugiau klausimų, nedvejodami susisiekite su mumis.

Skaityti daugiau Siųsti užklausą

SiC padengtas pjedestalas

„Vetek Semiconductor“ profesionaliai gamina CVD SiC dangą, TaC dangą ant grafito ir silicio karbido. Mes teikiame OEM ir ODM produktus, tokius kaip SiC padengtas pjedestalas, plokštelių laikiklis, plokštelių griebtuvas, plokštelių laikiklio dėklas, planetinis diskas ir pan. Naudodami 1000 klasės švarų kambarį ir valymo įrenginį galime pateikti produktus, kurių priemaišų kiekis yra mažesnis nei 5 ppm. Laukiame išgirstų greitai nuo tavęs.

Skaityti daugiau Siųsti užklausą

<...8 9 10 11 12...27 >