> Produktai > Silicio karbido keramika > Oksidacijos ir difuzijos krosnis

Produktai

Nauji produktai

Kinija Oksidacijos ir difuzijos krosnis Gamintojas, tiekėjas, gamykla

Oksidacijos ir difuzijos krosnys naudojamos įvairiose srityse, tokiose kaip puslaidininkiniai įrenginiai, diskretieji įrenginiai, optoelektroniniai įrenginiai, galios elektroniniai prietaisai, saulės elementai ir didelio masto integrinių grandynų gamyba. Jie naudojami procesams, įskaitant difuziją, oksidaciją, atkaitinimą, legiravimą ir plokštelių sukepinimą.

VeTek Semiconductor yra pirmaujanti gamintojas, kurio specializacija yra didelio grynumo grafito, silicio karbido ir kvarco komponentų oksidacijos ir difuzijos krosnyse gamyba. Esame įsipareigoję tiekti aukštos kokybės krosnių komponentus puslaidininkių ir fotovoltinės energijos pramonei ir esame paviršių dengimo technologijų, tokių kaip CVD-SiC, CVD-TaC, pirokarbonas ir kt., priešakyje.

VeTek Semiconductor silicio karbido komponentų pranašumai:

Atsparumas aukštai temperatūrai (iki 1600 ℃)

Puikus šilumos laidumas ir šiluminis stabilumas

Geras atsparumas cheminei korozijai

Mažas šiluminio plėtimosi koeficientas

Didelis stiprumas ir kietumas

Ilgas tarnavimo laikas

Oksidacinėse ir difuzinėse krosnyse dėl aukštos temperatūros ir korozinių dujų daugelio komponentų reikia naudoti aukštai temperatūrai ir korozijai atsparias medžiagas, tarp kurių dažniausiai naudojamas silicio karbidas (SiC). Toliau pateikiami įprasti silicio karbido komponentai, randami oksidacijos ir difuzijos krosnyse:

Vaflių valtis

Silicio karbido plokštelių valtis yra talpykla, naudojama silicio plokštelėms nešti, kuri gali atlaikyti aukštą temperatūrą ir nereaguoti su silicio plokštelėmis.

Krosnies vamzdis

Krosnies vamzdis yra pagrindinė difuzinės krosnies sudedamoji dalis, naudojama silicio plokštelėms talpinti ir reakcijos aplinkai valdyti. Silicio karbido krosnių vamzdžiai pasižymi puikiomis aukštos temperatūros ir atsparumo korozijai savybėmis.

Atraminė plokštė

Naudojamas oro srautui ir temperatūros pasiskirstymui krosnyje reguliuoti

Termoporos apsauginis vamzdis

Naudojamas temperatūros matavimo termoporų apsaugai nuo tiesioginio kontakto su korozinėmis dujomis.

Konsolinis irklas

Silicio karbido konsolinės mentelės yra atsparios aukštai temperatūrai ir korozijai, yra naudojamos silicio laiveliams arba kvarciniams laiveliams, gabenantiems silicio plokšteles, transportuoti į difuzinės krosnies vamzdžius.

Dujų purkštukas

Naudojamas reakcijos dujoms įvesti į krosnį, jos turi būti atsparios aukštai temperatūrai ir korozijai.

Valčių vežėjas

Silicio karbido plokštelių laikiklis naudojamas tvirtinti ir palaikyti silicio plokšteles, kurios turi tokius privalumus kaip didelis stiprumas, atsparumas korozijai ir geras konstrukcijos stabilumas.

Krosnies durys

Silicio karbido dangos arba komponentai taip pat gali būti naudojami krosnies durelių viduje.

Kaitinantis elementas

Silicio karbido kaitinimo elementai yra tinkami aukštai temperatūrai, didelei galiai ir gali greitai pakelti temperatūrą iki daugiau nei 1000 ℃.

SiC įdėklas

Naudojamas vidinei krosnies vamzdžių sienelei apsaugoti, jis gali padėti sumažinti šilumos energijos nuostolius ir atlaikyti atšiaurią aplinką, pavyzdžiui, aukštą temperatūrą ir aukštą slėgį.

View as

SiC konsolinis irklas

„VeTek Semiconductor“ SiC konsolinis irklas yra labai aukštos kokybės produktas. Mūsų SiC konsolinis irklas paprastai naudojamas terminio apdorojimo krosnyse, skirtose silicio plokštelėms tvarkyti ir palaikyti, cheminiam nusodinimui iš garų (CVD) ir kituose puslaidininkių gamybos procesuose. Aukštos temperatūros stabilumas ir didelis SiC medžiagos šilumos laidumas užtikrina aukštą efektyvumą ir patikimumą puslaidininkių apdorojimo procese. Esame įsipareigoję teikti aukštos kokybės produktus konkurencingomis kainomis ir tikimės tapti jūsų ilgalaikiu partneriu Kinijoje.

Skaityti daugiau Siųsti užklausą

Silicio karbido vaflių valtis, skirta horizontaliai krosniai

„VeTek Semiconductor“ yra profesionalus silicio karbido plokštelių, skirtų horizontaliajai krosnei, gamintojas ir tiekėjas Kinijoje, turintis ilgametę MTTP ir gamybos patirtį, gali gerai kontroliuoti kokybę ir pasiūlyti konkurencingą kainą. Galite būti tikri, kad iš mūsų nusipirksite silicio karbido vaflių valtį horizontaliai krosniai.

Skaityti daugiau Siųsti užklausą

SiC dengta silicio karbido valtis

„VeTek Semiconductor“ yra profesionalus SiC dengtų silicio karbido plokštelių gamintojas ir tiekėjas Kinijoje, turintis ilgametę MTTP ir gamybos patirtį, gali gerai kontroliuoti kokybę ir pasiūlyti konkurencingą kainą. Sveiki atvykę į mūsų gamyklą ir toliau diskutuokite apie bendradarbiavimą.

Skaityti daugiau Siųsti užklausą

Silicio karbido konsolinis irklas

„VeTek Semiconductor“ silicio karbido konsolinis irklas yra svarbus puslaidininkių gamybos proceso komponentas, ypač tinkamas difuzinėms krosnims arba LPCVD krosnims, vykstančiuose aukštos temperatūros procesuose, tokiuose kaip difuzija ir RTP. Mūsų silicio karbido konsolinis irklas yra kruopščiai suprojektuotas ir pagamintas, pasižymintis puikiu atsparumu aukštai temperatūrai ir mechaniniam stiprumui, ir gali saugiai ir patikimai transportuoti plokšteles į proceso vamzdį atšiauriomis proceso sąlygomis įvairiems aukštos temperatūros procesams, tokiems kaip difuzija ir RTP. Tikimės tapti jūsų ilgalaikiu partneriu Kinijoje.

Skaityti daugiau Siųsti užklausą

Didelio grynumo silicio karbido plokštelių laikiklis

VeTek Semiconductor High Pure Silicon Carbide Wafer Carrier are important components in semiconductor processing, designed to safely hold and transport delicate silicon wafers, playing a key role in all stages of manufacturing. VeTek Semiconductor's High Pure Silicon Carbide Wafer Carrier are carefully designed and manufactured to ensure excellent performance and reliability. VeTek Semiconductor is committed to providing quality products at competitive prices, and we look forward to being your long-term partner in China.

Skaityti daugiau Siųsti užklausą

Silicio karbido vaflių valtis

VeTek Semiconductor didelio grynumo silicio karbido valtis yra pagaminta iš ypač grynos silicio karbido medžiagos, pasižyminčios puikiu terminiu stabilumu, mechaniniu stiprumu ir cheminiu atsparumu. Didelio grynumo silicio karbido vaflių valtis naudojama karštose zonose puslaidininkių gamyboje, ypač aukštos temperatūros aplinkoje, ir atlieka svarbų vaidmenį apsaugant plokšteles, transportuojant medžiagas ir palaikant stabilius procesus. VeTek Semiconductor ir toliau sunkiai dirbs siekdama naujovių ir gerindama didelio grynumo silicio karbido vaflių valtį, kad atitiktų kintančius puslaidininkių gamybos poreikius. Tikimės tapti jūsų ilgalaikiu partneriu Kinijoje.

Skaityti daugiau Siųsti užklausą

<1 2 3 >

Kaip profesionalus Oksidacijos ir difuzijos krosnis gamintojas ir tiekėjas Kinijoje, turime savo gamyklą. Nesvarbu, ar jums reikia pritaikytų paslaugų, kurios atitiktų konkrečius jūsų regiono poreikius, ar norite įsigyti pažangių ir patvarių Oksidacijos ir difuzijos krosnis, pagamintų Kinijoje, galite palikti mums pranešimą.