Kas yra TaC danga?

TaC danga (tantalo karbido danga) yra aukštos kokybės dangos medžiaga, pagaminta cheminio nusodinimo garais (CVD) būdu. Dėl puikių TaC dangos savybių ekstremaliomis sąlygomis ji plačiai naudojama puslaidininkių gamybos procese, ypač įrangoje ir komponentuose, kuriems reikalinga aukšta temperatūra ir stipri korozinė aplinka. TaC danga dažniausiai naudojama apsaugoti pagrindą (pvz., grafitą ar keramiką) nuo pažeidimų dėl aukštos temperatūros, korozinių dujų ir mechaninio susidėvėjimo.

Produkto savybės ir privalumai

Itin didelis terminis stabilumas:

Funkcijos aprašymas: TaC dangos lydymosi temperatūra yra didesnė nei 3880°C ir gali išlaikyti stabilumą be skilimo ar deformacijos esant ypač aukštai temperatūrai.

Privalumas: todėl tai yra nepakeičiama medžiaga aukštos temperatūros puslaidininkinėje įrangoje, pvz., CVD TaC dangoje ir TaC padengtoje susceptoriuje, ypač naudojant MOCVD reaktorius, pvz., Aixtron G5 įrangą.

Puikus atsparumas korozijai:

Funkcijos aprašymas: TaC pasižymi itin stipriu cheminiu inertiškumu ir gali veiksmingai atsispirti korozinių dujų, tokių kaip chloridai ir fluoridai, erozijai.

Privalumai: puslaidininkių procesuose, kuriuose naudojamos labai korozinės cheminės medžiagos, TaC danga apsaugo įrangos komponentus nuo cheminio poveikio, pailgina tarnavimo laiką ir pagerina proceso stabilumą, ypač naudojant silicio karbido vaferinę valtį ir kitus pagrindinius komponentus.

Puikus mechaninis kietumas:

Funkcijos aprašymas: TaC dangos kietumas siekia 9-10 Mohs, todėl ji atspari mechaniniam susidėvėjimui ir aukštos temperatūros įtempiams.

Privalumas: Dėl didelio kietumo TaC danga yra ypač tinkama naudoti didelio susidėvėjimo ir didelio įtempimo aplinkoje, užtikrinant ilgalaikį įrangos stabilumą ir patikimumą atšiauriomis sąlygomis.

Mažas cheminis reaktyvumas:

Funkcijos aprašymas: Dėl savo cheminio inertiškumo TaC danga gali išlaikyti žemą reaktyvumą esant aukštai temperatūrai ir išvengti nereikalingų cheminių reakcijų su reaktyviomis dujomis.

Privalumas: tai ypač svarbu puslaidininkių gamybos procese, nes užtikrina proceso aplinkos grynumą ir kokybišką medžiagų nusodinimą.

TaC dangos vaidmuo puslaidininkių apdirbime

Pagrindinių įrangos komponentų apsauga:

Funkcijos aprašymas: TaC danga plačiai naudojama pagrindiniuose puslaidininkių gamybos įrangos komponentuose, tokiuose kaip TaC Coated Susceptor, kurie turi veikti ekstremaliomis sąlygomis. Padengti TaC, šie komponentai gali veikti ilgą laiką aukštos temperatūros ir korozinių dujų aplinkoje nepažeisti.

Prailginkite įrangos tarnavimo laiką:

Funkcijos aprašymas: MOCVD įrangoje, pvz., Aixtron G5, TaC danga gali žymiai pagerinti įrangos komponentų patvarumą ir sumažinti įrangos priežiūros bei keitimo poreikį dėl korozijos ir susidėvėjimo.

Padidinkite proceso stabilumą:

Funkcijos aprašymas: puslaidininkių gamyboje TaC danga užtikrina nusodinimo proceso vienodumą ir nuoseklumą, suteikdama stabilią aukštą temperatūrą ir cheminę aplinką. Tai ypač svarbu epitaksinio augimo procesuose, tokiuose kaip silicio epitaksija ir galio nitridas (GaN).

Pagerinti proceso efektyvumą:

Funkcijos aprašymas: optimizuodama dangą ant įrangos paviršiaus, TaC danga gali pagerinti bendrą proceso efektyvumą, sumažinti defektų skaičių ir padidinti produkto išeigą. Tai labai svarbu gaminant didelio tikslumo, didelio grynumo puslaidininkines medžiagas.

Dėl didelio šiluminio stabilumo, puikaus atsparumo korozijai, mechaninio kietumo ir mažo cheminio reaktyvumo, kurį TaC danga rodo puslaidininkių apdorojimo metu, yra idealus pasirinkimas puslaidininkių gamybos įrangos komponentams apsaugoti. Kadangi puslaidininkių pramonės paklausa dėl aukštos temperatūros, didelio grynumo ir efektyvių gamybos procesų ir toliau didėja, TaC Coating turi plačias taikymo perspektyvas, ypač įrangoje ir procesuose, kuriuose dalyvauja CVD TaC danga, TaC padengtas susceptorius ir Aixtron G5.

„VeTek semiconductor Technology Co., LTD“ yra pirmaujanti pažangių dangų medžiagų tiekėja puslaidininkių pramonei. mūsų įmonė daugiausia dėmesio skiria pažangiausių pramonės sprendimų kūrimui.

Mūsų pagrindiniai produktai yra CVD silicio karbido (SiC) dangos, tantalo karbido (TaC) dangos, birūs SiC, SiC milteliai ir didelio grynumo SiC medžiagos, SiC dengtas grafito susceptorius, pakaitinimo žiedai, TaC dengtas nukreipimo žiedas, pusmėnulio dalys ir kt. ., grynumas yra mažesnis nei 5 ppm, gali atitikti klientų reikalavimus.

„VeTek“ puslaidininkių dėmesys skiriamas pažangiausių technologijų ir produktų kūrimo sprendimų puslaidininkių pramonei kūrimui.Mes nuoširdžiai tikimės tapti jūsų ilgalaikiu partneriu Kinijoje.