SiC dangos ALD susceptorius

„VeTek“ puslaidininkisSiC dangos ALD susceptoriusvaidina gyvybiškai svarbų vaidmenį nusodinant atominį sluoksnį (ALD) procesas. Tikslus temperatūros valdymas, vienodas dujų paskirstymas, didelis cheminis atsparumas ir puikus šilumos laidumas užtikrina vienodą ir aukštą plėvelės nusodinimo proceso kokybę. Jei norite sužinoti daugiau, galite nedelsdami susisiekti su mumis ir mes jums atsakysime laiku!

Tikslus temperatūros valdymas:

SiC dangos ALD susceptorius paprastai turi didelio tikslumo temperatūros valdymo sistemą. Jis gali išlaikyti vienodą temperatūros aplinką viso nusodinimo proceso metu, o tai yra labai svarbu siekiant užtikrinti plėvelės vienodumą ir kokybę.

Vienodas dujų paskirstymas:

Optimizuotas SiC dangos ALD susceptoriaus dizainas užtikrina tolygų dujų pasiskirstymą ALD nusodinimo proceso metu. Jo konstrukciją paprastai sudaro kelios besisukančios arba judančios dalys, kad būtų skatinamas vienodas reaktyviųjų dujų padengimas visame plokštelės paviršiuje.

Didelis cheminis atsparumas:

Kadangi ALD procese naudojamos įvairios cheminės dujos, SiC dangos ALD susceptorius dažniausiai gaminamas iš korozijai atsparių medžiagų (pvz., platinos, keramikos ar didelio grynumo kvarco), kad būtų atsparus cheminių dujų erozijai ir aukštos temperatūros aplinkos poveikiui.

Puikus šilumos laidumas:

Siekiant efektyviai praleisti šilumą ir palaikyti stabilią nusodinimo temperatūrą, SiC dangos ALD susceptoriai dažniausiai naudoja didelio šilumos laidumo medžiagas. Tai padeda išvengti vietinio perkaitimo ir netolygaus nusėdimo.

Pagrindinės fizinės CVD SiC dangos savybės:

Gamybos parduotuvės:

Puslaidininkinių lustų epitaksijos pramonės grandinės apžvalga：