MOCVD LED Epi susceptorius

„VeTek“ puslaidininkis’sMOCVD LED Epi susceptoriusyra pagrindinis komponentas. Puslaidininkinių įtaisų paruošimo procese,MOCVD LED Epi susceptoriusyra ne tik paprasta šildymo platforma, bet ir tikslus proceso įrankis, turintis didelę įtaką plonasluoksnių medžiagų kokybei, augimo greičiui, vienodumui ir kitiems aspektams.

Konkretus naudojimasMOCVD LED Epi susceptoriuspuslaidininkių apdorojimas yra toks:

Pagrindo šildymas ir vienodumo kontrolė:

MOCVD Epitaxy Susceptor naudojamas vienodai šildyti, kad būtų užtikrinta stabili substrato temperatūra epitaksinio augimo metu. Tai būtina norint gauti aukštos kokybės puslaidininkines plėveles ir užtikrinti epitaksinių sluoksnių storio ir kristalų kokybės nuoseklumą visame pagrinde.

Cheminio garų nusodinimo (CVD) reaktorių kamerų palaikymas:

Kaip svarbus CVD reaktoriaus komponentas, Susceptor palaiko metalo organinių junginių nusodinimą ant substratų. Tai padeda tiksliai paversti šiuos junginius į kietas plėveles, kad susidarytų norimos puslaidininkinės medžiagos.

Skatinti dujų paskirstymą:

Susceptor konstrukcija gali optimizuoti dujų srauto pasiskirstymą reakcijos kameroje, užtikrinant, kad reakcijos dujos tolygiai liestųsi su substratu, taip pagerinant epitaksinių plėvelių vienodumą ir kokybę.

Galite būti tikri, kad pirksite pagal užsakymąMOCVD LED Epi susceptoriusiš mūsų, tikimės su jumis bendradarbiauti. Jei norite sužinoti daugiau informacijos, galite nedelsdami susisiekti su mumis ir mes jums atsakysime laiku!

Pagrindinės fizinės CVD SiC dangos savybės:

Gamybos parduotuvės:

Puslaidininkinių lustų epitaksijos pramonės grandinės apžvalga：